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EUV露光装置
読み：いいゆうぶいろこうそうち
EUV露光装置とは、半導体を製造する際に用いられる最先端の露光技術を搭載した装置のことです。EUVは「Extreme Ultraviolet（極端紫外線）」の略で、従来の光よりもはるかに短い波長を使うことで、シリコンウエハーにより細かく精密な回路パターンを描き込むことができます。
これにより、より小型で高性能な半導体チップの量産が可能になります。EUV露光装置は開発や製造が極めて難しく、世界でもオランダのASML社が事実上唯一の供給企業となっており、半導体産業全体の発展を左右する重要な存在です。資産運用の観点では、この装置を扱う企業や関連部品メーカーは技術的優位性が高く、長期的に成長が期待できる分野といえます。
関連する専門用語
フォトマスク
フォトマスクとは、半導体製造工程で使われる部品の一つで、シリコンウエハーに回路パターンを転写する際の「原版」にあたるものです。ガラス基板の上に金属などで微細な回路が描かれており、光を当ててその影をウエハー上に焼き付けることで、半導体チップの回路が形成されます。 いわば半導体の設計図の役割を果たしており、その精度や品質は最終製品の性能に直結します。資産運用の観点では、フォトマスクを供給する企業は高度な技術力を持つため参入障壁が高く、半導体需要拡大の恩恵を受けやすい投資対象といえます。
シリコンウエハー
シリコンウエハーとは、半導体製品をつくるための基盤となる薄い円盤状の材料のことです。砂に含まれるシリコンを精製し、単結晶に加工してから薄く切り出して磨き上げることで作られます。 このウエハーの上に回路を形成することで、パソコンやスマートフォン、家電などに使われる半導体チップが完成します。半導体の性能や生産効率はウエハーの品質や大きさに大きく左右されるため、半導体産業全体の根幹を支える重要な素材です。資産運用の観点では、シリコンウエハーを供給するメーカーの動向は、半導体需要や技術革新の影響を強く受けるため、注目される分野となります。
